- Schreiben von Faser-Bragg-Gittern (FBG)
- Augenchirurgie-Methoden (Ophthalmologie) mittels LASIK (Laser in-situ-Keratomileusis) und PRK (photorefraktive Keratektomie), bei denen die Form der Hornhaut (Kornea) zu Gunsten der optischen Eigenschaften verändert wird. Hierfür werden ArF-Laser bei 193 nm eingesetzt.
- Optische Inspektion und Messtechnik
- Testen von Optiken und Mikrooptiken
- Laserstrukturierung und Scribing
- Mikromaterialbearbeitung, beispielsweise in Keramik, Metall, oder Kunststoff
- Laserablation / Laserstrahlverdampfen (Pulsed Laser Deposition, ICP-MS)
- Dermatologie, z. B. Behandlung von Psoriasis und Vitiligo mit XeCl-Lasern bei 308 nm
- Immersionslithografie
- Schreiben von Masken
- Direkte Waferbearbeitung
Stand-Alone-Geräte mit der höchsten auf dem Markt erhältlichen Standzeit und Zuverlässigkeit und den niedrigsten Betriebskosten. Für anspruchsvolle Anwendungen geeignet durch homogenes Strahlprofil und Energiestabilisierung.
