UV-Beleuchtung & Bildgebung

Bei der Inspektion strukturierter Masken wird häufig das Reticle-Plane Imaging (RPI) eingesetzt, bei dem das Maskenbild auf einen Detektor projiziert und digital ausgewertet wird. Das kurzwellige 193-nm-Licht wechselwirkt stark mit den Maskenmaterialien und erzeugt einen hohen Kontrast zwischen Defekten und Hintergrund. Excimerlaser liefern stabile Nanosekundenpulse und gewährleisten dadurch eine gleichmäßige Beleuchtung für Inspektionssysteme mit hohem Durchsatz.

Diese Laserquellen sind in der Industrie für DUV-Inspektion und verwandte Metrologieanwendungen, wie etwa der Messung kritischer Strukturgrößen (CD-Messungen) und Aerial Imaging, etabliert. Optionale 248-nm-Wellenlängen können für gröbere Strukturen oder ältere Technologieknoten eingesetzt werden und ergänzen den 193-nm-Standard.

MLase GmbH entwickelt kompakte Excimerlaser mit hoher Puls-zu-Puls-Stabilität und robuster Strahlqualität, die eine zuverlässige Integration in Halbleiter-Inspektionssysteme und moderne Metrologieplattformen ermöglichen.

Excimerlaser dienen als stabile UV-Lichtquelle und liefern hochwertige 193-nm-Pulse, die mit modernen optischen Metrologieplattformen kompatibel sind. Ihre Stabilität und Reproduzierbarkeit ermöglichen die präzise Bewertung von Reticle-Strukturen unter scannerähnlichen Beleuchtungsbedingungen und unterstützen die genaue Analyse von Strukturtreue und Lithographieperformance.

Diese Laserquellen werden häufig in Simulationssystemen für die DUV-Lithographie eingesetzt und lassen sich zuverlässig in etablierte Aerial-Imaging-Plattformen zur Maskenverifikation integrieren.

MLase GmbH entwickelt Excimer-basierte UV-Lichtquellen mit stabiler Ausgangsleistung und präziser Strahlführung für die Integration in moderne Reticle-Imaging-Plattformen und hochpräzise optische Lithographie-Metrologiesysteme.

Diese Laser liefern stabile Nanosekundenpulse bei 193 nm oder 248 nm, entsprechen damit den etablierten Belichtungswellenlängen der Lithographie und gewährleisten reproduzierbare Resistprofile über verschiedene Experimente hinweg. Aufgrund ihrer kompakten Bauweise und ihres geringen Leistungsbedarfs eignen sie sich ideal für F&E-Systeme, Lehrplattformen und Prototypenentwicklungen, bei denen eine reproduzierbare UV-Belichtung entscheidend ist.

Als stabile UV-Lichtquelle unterstützen Excimerlaser zahlreiche lithographische Beschichtungen und Photoresists und lassen sich problemlos in optische Forschungsaufbauten integrieren. Sie sind nicht für Hochleistungs-Produktionsanlagen ausgelegt, eignen sich jedoch hervorragend für Labor-, Forschungs- und Pilotumgebungen, in denen Flexibilität, Präzision und Stabilität im Vordergrund stehen.

MLase GmbH entwickelt Excimerlaser, die speziell für die Integration in F&E-Lithographiesysteme und akademische Photonikplattformen optimiert sind, und liefert zuverlässige UV-Beleuchtung für Experimente, Prototyping und Lehre.

In optischen Laboren und industriellen Metrologiesystemen wird Tief-UV-Beleuchtung häufig für fortschrittliche optische Prüfungen und Sensortests eingesetzt. Sie ermöglicht die Erkennung von Defekten, die Analyse von Materialeigenschaften sowie die Bewertung optischer Leistungen, die bei sichtbaren Wellenlängen nicht erfasst werden können.

Excimerlaser mit 193 nm und 248 nm liefern intensive UV-Pulse und ermöglichen die hochauflösende Inspektion optischer Substrate, Beschichtungen, Photomasken, Sensoren und mikrooptischer Komponenten.

Diese kurzwelligen UV-Lichtquellen ermöglichen eine kontrollierte Beleuchtung von Oberflächen und optischen Strukturen und unterstützen Beschichtungscharakterisierung, Transmissionsmessungen, Defekterkennung sowie präzise optische Prüfungen photonischer Bauelemente.

Da viele optische Materialien im Tief-UV-Bereich starke Absorptionseigenschaften oder charakteristische Streueffekte aufweisen, können Excimer-basierte Beleuchtungssysteme Defekte im Nanometerbereich an Oberflächen, Defekte unterhalb der Oberfläche und Unregelmäßigkeiten in Beschichtungen sichtbar machen, die bei längeren Wellenlängen verborgen bleiben.

Diese Fähigkeiten werden umfassend in der Photonikforschung, der Halbleiterinspektion und der Qualitätskontrolle optischer Fertigungsprozesse eingesetzt.

Die MLase GmbH entwickelt kompakte Excimer-basierte UV-Lichtquellen für die Integration in optische Prüfstände, Metrologiesysteme und wissenschaftliche Instrumente. Mit stabiler Pulsenergie und zuverlässiger UV-Emission gewährleisten diese Systeme eine konstante Beleuchtung für hochpräzise optische Prüfungen und Charakterisierung in Labor und Industrie.