Industrielle Anwendungen

Analytische & wissenschaftliche Instrumente

Excimerlaser werden in analytischen und wissenschaftlichen Instrumenten eingesetzt, wenn eine präzise Wechselwirkung von ultravioletter Strahlung mit Materialien erforderlich ist.

Ihre Tief-UV-Wellenlängen ermöglichen kontrollierte Ablation, Ionisation und photochemische Prozesse, die hochempfindliche Messungen und reproduzierbare Analyseergebnisse unterstützen.

Excimerlaser für analytische und wissenschaftliche Instrumente

Die MLase GmbH entwickelt kompakte Excimerlaserquellen für die Integration in Analyseinstrumente, experimentelle Versuchsaufbauten und optische Testsysteme. Diese Systeme liefern eine stabile UV-Strahlung bei Wellenlängen wie 193 nm und 248 nm und unterstützen Anwendungen wie die laserbasierte Probenahme durch Ablation, Plasmagenerierung, photochemische Experimente und präzise optische Beleuchtung.

Mit stabiler Pulsenergie, flexiblen Wiederholraten bis in den Kilohertzbereich und kompakten OEM-fähigen Designs lassen sich MLase Excimerlaser zuverlässig in Massenspektrometriesysteme, spektroskopische Instrumente, Aerosolanalysatoren und photonische Forschungsaufbauten integrieren. Die Kombination aus Stabilität, Tief-UV-Performance und Integrationsflexibilität ermöglicht einen zuverlässigen Betrieb sowohl in anspruchsvollen Laborumgebungen als auch in industriellen Analyseinstrumenten.

UV-Laserquellen für wissenschaftliche und analytische Systeme

Die MLase GmbH entwickelt kompakte Excimerlaserquellen für die Integration in moderne Analyseinstrumente und Forschungsplattformen, darunter Massenspektrometriesysteme, spektroskopische Instrumente und optische Testsysteme. Mit stabiler Pulsenergie, zuverlässiger UV-Emission und flexiblen Integrationsmöglichkeiten unterstützen diese Laser anspruchsvolle wissenschaftliche Messaufgaben und OEM-Analyseinstrumente

Laserablation für ICP-MS (LA-ICP-MS) und TOF-MS Analysen

Die präzise Probenahme fester Materialien für die Massenspektrometrie erfordert eine kontrollierte Laserablation mit kurzwelliger ultravioletter Strahlung. UV-Laserquellen wie ArF-Excimerlaser bei 193 nm ermöglichen einen hochreproduzierbaren Materialabtrag und unterstützen LA-ICP-MS-Workflows für quantitative und isotopenanalytische Untersuchungen von geologischen, biologischen, halbleiterbasierten und keramischen Proben.

UV-Excimerlaser ermöglichen eine kontrollierte UV-Laserablation mit sauberem Materialabtrag und minimaler thermischer Beeinflussung. Dieses ablationsbedingte Niedrigtemperaturverhalten reduziert Elementfraktionierungseffekte und erhält die räumliche Auflösung während der Laserablation, wodurch sich das Verfahren besonders für hochpräzise LA-ICP-MS– und ICP-TOF-MS-Messungen eignet.

Kurze Nanosekundenpulse erzeugen klar definierte Ablationskrater bei minimalen thermischen Effekten und unterstützen einen effizienten Partikeltransport in ICP-MS– und TOF-MS-Detektionssysteme. Die resultierende Laserablation mit geringer thermischer Belastung verbessert die analytische Stabilität und ermöglicht schnelles Element-Mapping, hochauflösende Bildgebung sowie die Detektion schneller transienter Signale.

Die MLase GmbH entwickelt kompakte UV-Excimerlaserquellen für die Integration in LA-ICP-MS- und LA-TOF-MS-Plattformen. Diese Systeme liefern stabile UV-Pulse, die eine reproduzierbare Laserablation und zuverlässige analytische Leistung über ein breites Materialspektrum hinweg gewährleisten. Sie unterstützen hochpräzise spektroskopische Workflows einschließlich UV-Spektroskopie und fortschrittlicher Elementanalytik.

Der wassergekühlte Betrieb ermöglicht den kontinuierlichen Einsatz bei Wiederholraten bis 1 kHz und sorgt für stabile Ablationsprozesse sowie konstante Messbedingungen in Labor- und Industrieumgebungen.

Laser-Induced Breakdown Spectroscopy (LIBS)

Laser-Induced Breakdown Spectroscopy (LIBS) ist ein analytisches Verfahren zur Bestimmung der Elementzusammensetzung von Materialien. Dabei wird durch einen Laserpuls ein Plasma an der Materialoberfläche erzeugt und dessen Emissionsspektrum analysiert. Excimerlaser, einschließlich ArF-Laserquellen bei 193 nm, ermöglichen eine präzise Plasmagenerierung und kontrollierte Ablation und machen LIBS zu einer leistungsfähigen Methode für die Elementanalyse unterschiedlichster Feststoffe.

Bei LIBS-Messungen erzeugt ein kurzer energiereicher Laserpuls ein lokalisiertes Plasma auf der Probenoberfläche. Dieses Plasma erzeugt charakteristische Spektrallinien, die eine präzise Identifizierung der Elementzusammensetzung ermöglichen. UV-Pulse interagieren effizient mit zahlreichen Feststoffen und ermöglichen eine stabile Plasmagenerierung sowie kontrollierte Ablation von Metallen, Legierungen, Keramiken, Böden, Mineralien und geologischen Proben.

Das saubere Ablationsverhalten excimerbasierter LIBS-Systeme reduziert thermische Effekte und verbessert die spektrale Reproduzierbarkeit. Dadurch werden zuverlässige Analyseergebnisse erzielt. Hohe Wiederholraten ermöglichen zudem schnelle Scan- und Element-Mapping-Verfahren, wie sie in modernen LIBS-Instrumenten für Prozessüberwachung und Laboranalytik eingesetzt werden.

Die MLase GmbH entwickelt kompakte Excimerlaserquellen für LIBS-Anwendungen, die für die Integration in Analyseplattformen und spektroskopische Instrumente optimiert sind. Stabile Nanosekundenpulse, hohe Wiederholraten und wassergekühlter Betrieb ermöglichen den Dauerbetrieb bis 1 kHz und unterstützen eine stabile laserinduzierte Plasmagenerierung sowie reproduzierbare analytische Messungen in Labor- und Industrieumgebungen.

Laserionisation für die Aerosol-Massenspectrometry (LIZA-MS)

Die Echtzeitanalyse luftgetragener Partikel erfordert eine effiziente Laserionisation extrem kleiner Materialmengen. Excimerbasierte UV-Laserquellen liefern energiereiche UV-Photonen, die eine direkte Laserionisation von Aerosolpartikeln ermöglichen und damit die schnelle chemische Charakterisierung in Aerosol-Massenspektrometriesystemen wie LIZA-MS unterstützen.

Bei der Aerosol-Massenspektrometrie mittels Laserionisation werden einzelne Partikel während ihres Durchgangs durch das Instrument ionisiert, sodass ihre chemische Zusammensetzung in Echtzeit bestimmt werden kann. UV-Wellenlängen von Excimerlasern, beispielsweise 193 nm oder 248 nm, wechselwirken stark mit organischen und anorganischen Aerosolbestandteilen und ermöglichen eine effiziente Ionisation bei geringer Fragmentierung sowie stabile Ionenbildung während der Partikelanalyse.

Die Systeme können luftgetragene Aerosolpartikel über einen breiten Partikelgrößenbereich hinweg ionisieren und unterstützen damit die detaillierte Analyse atmosphärischer Aerosole, von Feinstaub, industriellen Emissionen und Verbrennungsnebenprodukten. Die stabile Pulsenergie und hohe Wiederholrate der UV-Laser ermöglichen eine schnelle Detektion transienter Ereignisse sowie Einzelpartikelanalysen und eignen sich damit für Anwendungen in der Umweltüberwachung und Atmosphärenforschung.

Die MLase GmbH entwickelt kompakte UV-Excimerlaserquellen für die Integration in spezialisierte Aerosol-Massenspektrometrieplattformen einschließlich LIZA-MS-Systemen. Die stabilen UV-Pulse unterstützen eine zuverlässige Laserionisation und anspruchsvolle spektroskopische Workflows in OEM-Analyseinstrumenten zur Echtzeitcharakterisierung von Partikeln.

UV-Laser-Photolyse

Photolyseexperimente nutzen energiereiche UV-Photonen, um chemische Reaktionen auszulösen und kurzlebige molekulare Spezies zu erzeugen. Excimerbasierte UV-Laserquellen liefern intensive UV-Pulse, die eine kontrollierte Bindungsspaltung und reproduzierbare Initiierung photolytischer Prozesse in der UV-Photochemie und spektroskopischen Forschung ermöglichen.

Bei laserbasierten Photolyseexperimenten löst ein kurzer UV-Puls die Dissoziation von Molekülen aus und erzeugt Radikale sowie transiente Zwischenprodukte, die mittels zeitaufgelöster Spektroskopie analysiert werden können. Die Wellenlänge von 248 nm eines KrF-Excimerlasers liefert die hohe Photonenergie, die erforderlich ist, um photochemische Reaktionen in zahlreichen Gasphasen- und Molekülsystemen anzuregen.

Die Nanosekunden-Pulsstruktur eines UV-Lasers ermöglicht eine präzise zeitliche Steuerung des Reaktionsstarts und unterstützt kinetische Untersuchungen, transiente Absorptionsspektroskopie sowie Fluoreszenzanalysen. Stabile Pulsenergie und Wellenlänge gewährleisten reproduzierbare Versuchsbedingungen und sind damit eine wesentliche Voraussetzung für kontrollierte Photolyseexperimente und analytische Forschungsarbeiten.

In spezialisierten Forschungsanwendungen kann excimerbasierte Photolyse auch Aerosole oder Partikel gezielt fragmentieren. Die entstehenden Fragmente lassen sich über charakteristische Fluoreszenz- oder Spektralsignaturen nachweisen. Dieses Verfahren wird teilweise als Excimer Laser Fragmentation Fluorescence Spectroscopy (ELFFS) bezeichnet.

Die MLase GmbH entwickelt kompakte UV-Laserquellen für die Integration in wissenschaftliche Photochemie-Aufbauten und analytische Instrumente. Die stabile Tief-UV-Emission ermöglicht eine zuverlässige Photolyse und spektroskopische Analyse in Labor- und OEM-Forschungsplattformen für Molekülanalytik und Reaktionskinetik.

Optikcharakterisierung & UV-optische Prüfung

UV-Beleuchtung spielt eine zentrale Rolle bei der Prüfung und Charakterisierung optischer Komponenten, Beschichtungen, Sensoren und photonischer Bauteile. Excimerlaser liefern eine stabile und energiereiche UV-Emission, die präzise optische Inspektionen, metrologische Untersuchungen und Defekterkennung in Forschungslaboren und industriellen Testumgebungen ermöglicht.

In optischen Laboren und industriellen Messsystemen wird Tief-UV-Beleuchtung für anspruchsvolle optische Prüfungen und Sensortests eingesetzt. Sie ermöglicht die Detektion von Defekten, die Analyse von Materialeigenschaften und die Bewertung optischer Leistungsmerkmale, die bei sichtbaren Wellenlängen nicht erkennbar sind. Excimerlaser mit 193 nm und 248 nm liefern intensive UV-Pulse für die hochauflösende Inspektion optischer Substrate, Beschichtungen, Photomasken, Sensoren und mikrooptischer Komponenten.

Diese UV-Lichtquellen mit kurzen Wellenlängen ermöglichen die kontrollierte Beleuchtung von Oberflächen und optischen Strukturen und unterstützen Beschichtungscharakterisierung, Transmissionsmessungen, Defekterkennung sowie die präzise Prüfung photonischer Komponenten.

Da viele optische Materialien im Tief-UV-Bereich eine starke Absorption oder charakteristische Streueffekte zeigen, können excimerbasierte Beleuchtungssysteme nanoskalige Oberflächenfehler, subsurface Defekte und Unregelmäßigkeiten in Beschichtungen sichtbar machen, die bei längeren Wellenlängen verborgen bleiben. Diese Fähigkeiten werden häufig in der Photonikforschung, der Halbleiterinspektion und der Qualitätssicherung in der Optikfertigung genutzt.

Die MLase GmbH entwickelt kompakte UV-Lichtquellen für die Integration in optische Testsysteme, metrologische Anlagen und wissenschaftliche Instrumente. Mit stabiler Pulsenergie und zuverlässiger UV-Emission liefern diese Systeme eine konsistente Beleuchtung für hochpräzise optische Prüfungen und Charakterisierungsaufgaben in Labor- und Industrieumgebungen.

Anwendungsgebiete

Warum Excimerlaser?

Hohe Tief-UV-Photonenenergie ermöglicht eine effiziente analytische Probenahme

Unterstützt saubere Laserablation, Plasmagenerierung und Ionisation in unterschiedlichsten Materialien für geochemische, umweltanalytische, biologische und materialwissenschaftliche Untersuchungen.

Geringe thermische Wechselwirkung verbessert die analytische Aussagekraft

Reduziert Schmelz-, Wiederablagerungs- und Fraktionierungseffekte bei Laserablation und Plasmagenerierung.

Hohe Pulsstabilität gewährleistet reproduzierbare Messergebnisse

Ein entscheidender Faktor für quantitative Verfahren wie LA-ICP-MS, LIBS und laserbasierte Ionisations-Massenspektrometrie.

Breite Materialkompatibilität ermöglicht den Einsatz einer Laserplattform für verschiedene Analyseverfahren

Von der Festkörper-Probenahme durch Ablation über Aerosolionisation und Photolyseexperimente bis hin zur optischen Charakterisierung.

ISO 13485

Unser Qualitäts-versprechen

Die MLase GmbH ist als Medizinproduktehersteller tätig und betreibt ein Qualitätsmanagementsystem nach ISO 13485 / EN ISO 13485. Unsere Produkte werden entwickelt und gefertigt, um höchste Anforderungen an Leistung, Zuverlässigkeit und Qualität zu erfüllen..

Dieses Qualitätsverständnis stellt sicher, dass unsere Excimerlasersysteme auch in anspruchsvollen Anwendungen zuverlässig und reproduzierbar arbeiten.

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